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中国大部分研发开支都用于开发方面
时间:2013-07-23 16:56   来源:未知   作者:肖遥   点击:

  合作重点包括流程工业的绿色化、自动化及装备制造技术、制造业信息化集成技术与系统、射频标签技术、智能机器人技术、极端制造技术以及微纳制造技术与工艺等。绿色制造与先进制造关键技术方面。
  中国已超过日本,经合组织(OECD一份报告显示。成为全球第二大研发投入国。
  过去一年中,经合组织表示。中国研发投入的增幅超越20%预计今年全年将达到1360亿美元,高于日本的1300亿美元,但仍远远落后于美国的3300亿美元。
  标明中国的研发开支出现大幅增长,这份报告是一个最新的迹象。这开始引起西方政府的担忧。
  中国研发投入的飞速增长“令人惊讶”经合组织科技部门主管德克·派拉特(DirkPilat表示。
  中国的研发投入一直在快速增长,补充称:一段时间以来。但能如此迅速地超越日本,仍令人吃惊。
  中国大部分研发开支都用于开发方面,派拉特表示。主要针对快速增长的中国市场进行产品改进,而非基础性的科研工作。
  来自中国的专利注册数量仍然较少,美国、欧洲和日本的专利部门。而有关学术欺诈的一系列丑闻,也已引发外界对于中国研发资金管理问题的疑问。
  一些跨国公司已经开始将真正的研究工作转移到中国,派拉特补充称。因为它可以在上海或北京聘请到大批高水平的科学家。
  已经开始在中国开展基础性或突破性的研究工作。表示:有些迹象标明。
  中国政府还一直热衷于吸引跨国公司在华开设研究中心。除了加大高等院校科研部门的资金投入以外。
  十一五”期间,科技部3日公布的十一五”国际科技合作实施纲要》提出。国国际科技合作将围绕产业升级,利用国际科技合作促进信息技术、新资料技术和先进制造技术的发展,提高重大装备和产品制造的自主创新能力。
  合作重点包括高性能CPU、高性能计算机、软件、网格计算平台与服务环境、先进传感技术、虚拟现实技术、新一代高可信互联网、新一代宽带无线移动通信以及极大规模集成电路设计与制造技术等。信息技术开发与应用方面。
  合作重点包括资源节约型资料和绿色资料制备技术、集成电路配套资料、光电信息资料、高性能磁性资料、高密度信息存储资料、生物医用资料、智能资料与结构技术、高效能源资料技术、高性能膜资料以及高性能结构资料等。


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